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林本堅指出中芯國際現有設備就可以做到5nm制程

2022-01-03 16:45:50 來源:企一網

目前全球晶圓半導體制造行業中,只有臺積電、三星等極少數公司量產了EUV工藝,Intel也要到2023年Intel 4工藝才能用上EUV光刻,相比之下,國內工藝最先進的中芯國際量產工藝還停留在14nm及以上節點。

 林本堅指出中芯國際現有設備就可以做到5nm制程

EUV光刻機是先進工藝的關鍵,不過也不是說沒有EUV工藝就完全不能做了,臺積電前技術研發副總林本堅日前談到了中芯國際的技術發展,指出中芯國際不一定需要用到EUV光刻機,現有設備就可以做到5nm制程。

 林本堅指出中芯國際現有設備就可以做到5nm制程

林本堅是芯片光刻技術方面的大牛,在IBM公司工作了22年,主要從事光刻技術研究,2000年被蔣尚義招募到臺積電,2002年提出沉浸式光刻技術,帶領臺積電在芯片制造上翻身,目前該技術依然是ASML光刻機中的核心技術。

在不適用EUV光刻機的情況下,臺積電就做到了量產7nm工藝,量產5nm也是可行的,不過制造成本很高,多重光刻難度很大,只有在不得已的情況下才會這樣做。


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